平面研磨設(shè)備的研磨形式介紹
發(fā)布日期: 2019-05-10 瀏覽人數(shù):
隨著人們對(duì)手機(jī)的需求越來越大,平面研磨設(shè)備行業(yè)得到快速發(fā)展。
平面研磨機(jī)按國家標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量檢定規(guī)程執(zhí)行,分別為1、2、3、精刨五個(gè)等級(jí)。1級(jí)平面研磨機(jī)要求接觸斑點(diǎn)數(shù)在任意25×25mm平面內(nèi)不少于20點(diǎn),2級(jí)平面研磨機(jī)要求接觸斑點(diǎn)數(shù)在任意25×25mm平面內(nèi)不少于12點(diǎn),3級(jí)平面研磨機(jī)未規(guī)定接觸斑點(diǎn)要求。有人問平面研磨機(jī)的研磨方法有哪些呢?
一、電化學(xué)研磨:這種研磨方法的優(yōu)點(diǎn)是鏡面光澤保持的長(zhǎng),工藝較為穩(wěn)定,污染少并且成本是比較低的,還有就是防腐蝕性是很好的;但是缺點(diǎn)是防污染性高,對(duì)于加工設(shè)備的一次性投資是比較大的,復(fù)雜件要工裝、輔助電極以及需要大量的生產(chǎn)降溫設(shè)施。
二、機(jī)械研磨:這種研磨方法的有點(diǎn)是加工后零件的整平性是很好的,光亮度也高;但是缺點(diǎn)是勞動(dòng)的強(qiáng)度比較大,污染較為嚴(yán)重,對(duì)于復(fù)雜的零件時(shí)無法加工的,還有就是他的光澤是不一致的。
三、化學(xué)研磨:這種研磨方法的有點(diǎn)是加工設(shè)備投資少,復(fù)雜件也是可以進(jìn)行研磨的,速度快比較效率高;缺點(diǎn)是光亮度差、氣體容易溢出。