單面研磨機的研磨軌跡如何達(dá)到均勻性
發(fā)布日期: 2019-05-10 瀏覽人數(shù):
單面研磨機在作單面或者雙面研磨時,想要其研磨平面相對均勻布滿整個平面,沒有不規(guī)則的空洞存在,這些因素都是取決于加工設(shè)備和運動參數(shù)。已有研究表明如果以下這些點的基礎(chǔ)上則能達(dá)到理想研磨軌跡。
1.工件、磨粒、研磨盤均為剛體;
2.工件被加工表面、研磨面工作面均勻為理想平面;
3.磨料固定在研磨面工作面上;
4.所有的磨粒粒徑大致相同的情況下;
5.磨粒不破碎、不產(chǎn)生脫落現(xiàn)象;
6.工件與研磨機的
研磨盤轉(zhuǎn)動時的誤差忽略。
綜合上面的基礎(chǔ),通過運動分析,研具相對工件的運動軌跡并用計算機離散化,將工件表面劃分成一定數(shù)量的小正方形區(qū)域,統(tǒng)計一定時間內(nèi)各區(qū)域內(nèi)軌跡點的數(shù)量,或通過軌跡密度,評介工件研磨的均勻性,反之。也可以通過工件相對研具的運動軌跡來來得出研具的磨損性。單面研磨機研磨軌跡的均勻性的提高有得平面度的改善。